Tec Saltillo atiende cinco casos de acoso en la institución; hay una denuncia penal

El Tecnológico Nacional de México, campus Saltillo, atiende alrededor de 5 casos de presunto acoso los cuales se encuentran en proceso de revisión, algunos relacionados con quejas presentadas desde finales del año pasado y principios de 2026, informó la directora del plantel, Ania Sánchez Ruiz.

La directora señaló que las quejas involucran tanto a estudiantes como a docentes y que, hasta el momento, tiene conocimiento de una denuncia penal relacionada con uno de los casos.

Sobre su estado, explicó que los expedientes se encuentran en distintas etapas de atención y que algunos fueron turnados al área jurídica de la Secretaría de Educación Pública, debido a que los procedimientos deben seguir las instancias correspondientes fuera del plantel.

Uno de los procesos escaló a la vía penal tras la demanda por difamación interpuesta por un docente contra una alumna.

Además, reconoció que los procesos pueden prolongarse debido a los requerimientos de información, las citaciones a las personas involucradas y la intervención de las instancias jurídicas. Añadió que la institución mantiene comunicación con las autoridades correspondientes para dar seguimiento a los expedientes.

La directora agregó que el comité académico atiende los conflictos entre estudiantes, mientras que el comité de ética interviene en otros asuntos relacionados con la conducta de la comunidad tecnológica. Las sanciones, dijo, se determinan conforme a los reglamentos y a los resultados de cada procedimiento.

“Reiterarles que estamos en el compromiso de atenderlos, no nos escondemos, no protegemos absolutamente a nadie”, afirmó.

Sánchez Ruiz indicó que, cuando se presentan situaciones que requieren medidas de protección, el plantel puede separar temporalmente a las personas involucradas de determinadas actividades para evitar el contacto con quienes presentaron las quejas. Sin embargo, explicó que estas decisiones deben tomarse con cuidado para no anticipar sanciones.